在冷凍機中真空鍍膜事情道理是膜體在高溫下蒸發落在工件外貌結晶。由於氛圍對蒸發的膜體分子會發生阻（zǔ）力造成碰撞使結（jié）晶體變得粗拙無光，所以必需在高真空下才氣使結晶體精密灼爍，果如真空（kōng）度不高結晶體就會失去光芒結協力也（yě）很（hěn）差。早期真空鍍膜是依靠蒸發體自然散（sàn）射，團（tuán）結差工效低光芒差。此刻加上中頻磁（cí）控（kòng）濺射靶用磁控射靶（bǎ）將（jiāng）膜體的（de）蒸發分子在電場的浸染下加快轟擊靶（bǎ）材，濺射（shè）出大量的靶材原子，呈中性的靶（bǎ）原子（或分子）沉積（jī）在基片上成膜，辦理了已往自然（rán）蒸發（fā）無法加（jiā）工的膜體品種，如鍍鈦鍍鋯（gào）等等。在中頻設備必需冷凍機加冷卻水，原因是（shì）它的頻率（lǜ）高（gāo）電（diàn）流大。電流在導體活動時有一個集膚效應，電荷（hé）會聚積在電導有外貌積（jī），這樣使電導發燒所以回收中孔管做導體中間冷凍機加水冷卻。

　　製冷（lěng）機為什麽也要用水冷卻，磁控濺射靶在發射時會發生（shēng）高溫會使射槍變形，所以它有一個水套來冷卻射槍。製冷（lěng）機（jī）同時尚有一個重要原因磁控濺射可以被認為是鍍膜技能中最（zuì）突出的成績之一。製冷機真空鍍膜以濺射率高、基片溫升（shēng）低、膜-基結協力好。從更深條理（lǐ）研究電子在非勻稱電磁場中的舉動紀律,探討了磁控濺射的更一般道理（lǐ）以及磁場的橫向不勻稱性及對稱性（xìng）是磁約束的本質原（yuán）因。製冷機真空鍍膜磁控濺射可以被認為是鍍膜技能中（zhōng）最突出的（de）成績之一。它以濺射率高、基片溫升低、膜-基結協力好、裝置（zhì）機能不變。

　　冷水機是一種水冷卻設備，能提供恒溫、恒流、恒壓的冷卻水設備。其（qí）事情道理是先向機內水箱注入必然量的（de）水，通過製冷係統將水冷卻，再由水（shuǐ）泵將（jiāng）低溫冷卻水送入需冷卻的設備，冷凍水將熱量帶走後溫度升高再回流到水箱，到達冷（lěng）卻的（de）浸染（rǎn）。冷卻水溫可按照要求自動調理，恒久利用可節省用水。冷水性能節製真空鍍膜機的溫度，以擔保鍍件的高質量。假如不配冷水機就不能使真空鍍膜機到達高精度、高效率（lǜ）節製溫度（dù）的目標，因為自然水和水塔散熱都不行製止地受到自（zì）然氣溫的影響，並且此方法節製是（shì）極不不變的。冷水機（jī）具有完全（quán）獨立的製（zhì）冷係統，毫不會受氣溫及情況的影響，水溫在5℃～30℃範疇內調理節製，因而可以到達高精度、高效率節製溫度的目標，冷水機設有獨立的水輪回係統（tǒng）。